科學技術的發展很快，高科技的產品不斷出現，尤其是電子工業的發展更是日新月異，像集成電路的發展兩三年就更新一代。IC芯片的發展遵循“ 摩爾定律”( Intel 公司創始人之一GordonE .Moore 1965年預言) ，芯片上可容納的晶體管數目( 即集成度) 每18個月便可增加1倍。10年(2000年一2010年) 間我國IC的主流技術由5 英寸、6 英寸、0.5 lam 以上工藝水平提升到8英寸0.18 lam～0.25m，12 英寸、110nm~90nm～65nm。表征工藝水平的較小線寬（ 即特征尺寸featUresiZe ) ，目前已進入納米 ( nm ) 級 ，“ 中芯國 際”32／ 28nm 已取得關鍵技術突破，將在“十二五”中期進入量產。TF T.L C D 的發展速度更快，一二年就上一個臺階：北京京東方n- LCD薄膜晶體管液晶顯示器5代線 ( 基板尺寸1100 lnnl × 1300 mm) 剛投產，即開始建設合肥京東方6代線( 基板尺寸 1500 mm × 1850mm) ；不到2 年又開始北京京東方8.5代線( 基板尺寸2200mm×2500mm) 的建設。目前中電熊貓正規劃TFT—LCD10 代線( 基板尺寸2889mm×3130mm) 的建設。 這就要求為其服務的高級別的潔凈室工程必須能適應其發展速度。

從目前我國潔凈室行業市場發展來看，電子信息、航空航天、精密儀器、醫藥衛生等行業的持續增長，極大地推動了潔凈室的市場需求，進而帶動潔凈室工程行業的大發展。根據中國電子學會綜合測算，2007年中國潔凈室工程行業整體市場規模為217．14 億元，盡管其間受 2008年全球金融危機的影響，部分行業需求下降，波及到潔凈室工程行業，但2009 年下半年起，受國家發布 電子信息產業調整和振興規劃、電子信息產品市場需求釋放等因素的影響，行業對潔凈室的需求迅速恢復，使潔凈室工程行業市場回暖。截止到2011年整個潔凈室工程行業市場規模達到387.77億元，五年間的年均復合增長率平均為15.6％。

實驗室凈化工程有極好的靈活性和適應性，以滿足微電子、光電子等生產工藝不斷發展進步的要求。建造 一個潔凈廠房投入成本高，使用時問長，不是一二年就會拆掉重建。因此，在潔凈室設計與建造時必須考慮到生產工藝流程的不斷發展和變化，使潔凈室具備更好的適應性和靈活性。對于潔凈室工程行業來說，在施工過程中，或者是在潔凈室使用過程中，都會因為生產工藝流程的改變引起的氣流組織、設備容量等方面的變化而導致設計的改變，而這種變更需要在前期設計時預留好變更的空間，否則將 會為后期的改變埋下隱患。